納米干冰光學零件清洗設(shè)備

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佛山微邁科技有限公司

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詳細參數(shù)
品牌佛山微邁型號設(shè)備
電源其他加工定制
外形尺寸其他

產(chǎn)品詳情

納米干冰半導體清洗設(shè)備原理導航欄
以顆粒狀的干冰作為清洗介質(zhì),通過壓縮空氣將干冰微粒高速噴向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷凍至脆化并爆裂,干冰微粒通過撞擊作用滲透到污垢及基層材料之間,隨即升華,體積瞬時增大800倍,迫使污垢與基層材料脫離,達到清洗的目的。
干冰清洗工作
單噴頭干冰清洗工作圖

單噴頭干冰清洗工作圖
單噴頭干冰清洗速度壓力仿真
單噴頭干冰清洗速度壓力仿真
納米干冰半導體清洗設(shè)備技術(shù)對比導航
序號 清洗方法 異物粒子祛除 膜層祛除 對物件的損傷 干燥工序 環(huán)境污染 難題
濕法 1 純水 一般 較差 一般 水膜再著附,金屬元素殘留
2 有機溶劑 一般 較好 較大 有機溶劑再著附,溶劑后處理
干法 3 納米干冰 很好 較低 清洗面積較小
4 超聲波 一般 一般 固體異物,微細顆粒難除凈
5 空氣 一般 一般 固體異物,微細顆粒難除凈
6 大氣等離子 一般 較大 清洗能力較差
納米干冰半導體清洗設(shè)備參數(shù)導航
型號 光學零件清洗機WMGB02
外形尺寸 500×900×1200
重量 60Kg
電源 AC220V 50Hz 單相
功率 3.5kW
CO2噴射系統(tǒng)
CO2 氣態(tài)/液態(tài)
CO2壓力 ≥1MPa
噴嘴規(guī)格 0.1mm~4mm
CO2消耗量 50~200g/min
CO2恒溫系統(tǒng)
介質(zhì) 水/制冷劑
容量 4L
溫度調(diào)節(jié)范圍 室溫~10℃
CO2增壓系統(tǒng)
驅(qū)動介質(zhì) 壓縮空氣
驅(qū)動氣壓 0.1~0.8MPa
增壓比 1:15
增壓量 320L/min
CDA輔助系統(tǒng)
CDA氣體 壓縮空氣/氮氣
CDA壓力 0.1~0.8MPa
CDA溫度調(diào)節(jié) 標配


納米干冰半導體清洗設(shè)備清洗效果展示

光學零件清洗效果

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